مقاله ISI به زبان انگلیسی به همراه ترجمه فارسی
عنوان و چکیده انگلیسی:
Influence of copper thin film as an electrode on the DC electrical breakdown in the presence of Ar and air
Abstract. Electrical breakdown for low pressure argon gas and air, using copper thin films as the electrodes, was investigated. A specially designed cathode was built from copper thin film deposited on glass by a magnetron sputtering system creating the breakdown between those electrodes. The left side of Paschen’s curve and ionization coefficient η as well as the effective electron emission coefficient γ was obtained with
respect to the variation of reduced electric fields for argon gas and air for different thin films thicknesses. It is concluded that reducing the thin film thickness as an electrode leads to a decrease of breakdown voltage
and amplifying secondary electron emission. In addition, the influence of the gas type on dependence of breakdown characteristics on the electrode thickness was investigated.
عنوان و چکیده فارسی:
تأثير فيلم هاي نازك مس به عنوان الكترود بر روي شكست الكتريكي DC در حضور آرگون و هوا
چكيده
شكست الكتريكي براي گار كم فشار آرگون و هوا با استفاده از فيلم نازك مس به عنوان الكترود بررسي شد. يك كاتد خاص براي فيلم هاي نازم مس نهشت داده شده روي شيشه به وسيله يك سيستم كندوپاش مگنترون طراحي شد و بين الكترود ها شكست الكتريكي ايجاد كرد. سمت چپ منحني پاشن و ضريب يونيزاسيون η و همچنين بازده گسيل مؤثر الكترون γ در رابطه با تغييرات كاهشي ميدان الكتريكي براي گاز آرگون و هوا براي ضخامت فيلم هاي مختلف بدست آمد. نتيجه اي كه بدست آمد اين بود كه كاهش ضخامت فيلم نازك به عنوان الكترود منجر به كاهش ولتاژ شكست و تقويت گسيل الكترون ثانويه مي شود. به علاوه، تأثير نوع گاز بر وابستگي مشخصه هاي شكست به ضخامت الكترود هم بررسي شد.
تأثير فيلم هاي نازك مس به عنوان الكترود بر روي شكست الكتريكي dc در حضور آرگون و هوا_1531722946_13878_4646_1545.zip0.00 MB |